關于拓荊

企業簡介

拓荊科技股份有限公司成立于2010年4月,是國家高新技術企業,主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售與技術服務。公司多次承擔國家重大專項。2016年、2017年、2019年獲評中國半導體行業協會授予的“中國半導體設備五強企業”稱號。公司于2020年在北京、上海、海寧成立三家子公司。

公司主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備和次常壓化學氣相沉積(SACVD)設備三個產品系列,擁有自主知識產權,技術指標達到國際同類產品先進水平,產品主要應用于集成電路晶圓制造,以及TSV封裝、光波導、Micro-LED、OLED顯示等高端技術領域。公司在北京、上海、武漢、合肥、天津、臺灣等20多個地區的近40條生產線都設有技術服務中心,為客戶提供每周7天,每天24小時的技術服務。


我們公司現有十余名海外高層次專家,結合國內優秀人才,形成了一支國際化的專業團隊,具備高科技研發實力及管理經驗,截至2021年6月30日,公司員工總數超350人(含子公司)。通過多年技術積累,公司已形成自主知識產權體系,截至2021年6月30日,累計獲授權專利超160項,被國家知識產權局評為“國家知識產權示范企業(2019-2022)”。

公司總部坐落于沈陽市渾南區,占地80畝,擁有現代化辦公大樓及高等級潔凈廠房,總建筑面積達40,000平方米。第一期生產能力可實現年產100臺套,全部投產可達350臺套設備,可以滿足下游客戶增產需求。公司已通過ISO9001、ISO14001、ISO45001體系的認證,并擁有覆蓋全球的供應商網絡。

拓荊公司愿與業界伙伴建立真誠、友好、共贏的產業合作聯盟,為中國及世界半導體產業的發展做出貢獻。

2010
成立
40,000
m2
占地面積
500
+
合作伙伴
10
+
技術支持中心
  • 微信公眾號
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